区别于光化学淹没，模切工艺能够为蚀刻工艺提供其它的遮蔽材料，例如:硅胶保护膜，易裁切、易排废、无残留，能够很好的与产品表面结合从而保护金属基材，适用于片式和卷式蚀刻工艺。我们成熟的工艺组合，能够给您提供更优的产品解决方案。
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解决方案
区别于光化学掩膜，模切工艺能够为蚀刻工艺提供其它的遮蔽材料，例如：硅胶保护膜，热解粘膜，光解粘膜等，主要达到易裁切，易排废，无残留的效果，也适用于片式与卷对卷蚀刻工艺。我们成熟的工艺组合，能给您提供更优的解决方案。
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设备
应对于蚀刻产品的高精度要求，模切屏蔽材料需要高度精准，我们投入了万级无尘车间与高精度的套位模切设备，仅±0.03——±0.05mm的公差范围保证了这项工艺的重要性。
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精确度
模切精确度也来源于模具的提升，我们的模具采用高硬度的钢材，使用精雕设备铣出刀锋，提高平整度和精确度，为了提供更具成本效益的解决方案，我们一直在探索。
