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金属蚀刻-工艺原理
产品设计高灵活性与快速呈现样件,材料厚度从1.0mm-0.01mm,适用于铜、镍、铁、不锈钢、钛等,同时让冲孔工艺无法实现的精度变为可能 。
01前处理
01前处理

决定蚀刻精度的先决条件:原材料清洗,去除油污、灰尘颗粒,同时能够选择性让原材料表面进行化学粗化;
02涂布
02涂布

将对紫外线敏感的涂层均匀覆盖至材料两侧,为蚀刻工艺段对原材料进行选择性保护;
03曝光
03曝光

通过CAD数据设计光绘菲林胶片,菲林对基材感光涂层进行选择性遮蔽; 

在紫外线的照射下,未被照射部分涂层分子结构不稳定,能被显影工艺去除掉;

04显影
04显影

涂层上未被紫外线照射区域保护层移除 ;
05蚀刻
05蚀刻

通过蚀刻液溶解没有保护涂层的基材部分,同时通过对设备进行控制,能够形成半蚀刻区域,这也是冲压工艺无法实现的,此工艺可以保障99.99%没有毛刺;
06脱膜与包装
06脱膜与包装

脱膜:涂层保护层剥离过程; 

蚀刻产品与原材料基材分离,全检包装 。

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